آمار
| تعداد نشریات | 43 |
| تعداد شماره‌ها | 1,253 |
| تعداد مقالات | 15,411 |
| تعداد مشاهده مقاله | 51,249,541 |
| تعداد دریافت فایل اصل مقاله | 14,256,719 |
بررسی اثر شدت و جهت گیری میدان مغناطیسی خارجی در توزیع چگالی الکترونهای پلاسمای مغناطیده تحت تاثیر پالس لیز و معرفی پارامترهای تعیین کننده دی الکتریک پلاسما | ||
| پژوهش های علمی در فیزیک نظری و کاربردی | ||
| مقالات آماده انتشار، پذیرفته شده، انتشار آنلاین از تاریخ 23 اردیبهشت 1403 | ||
| نوع مقاله: مقاله پژوهشی | ||
| شناسه دیجیتال (DOI): 10.22034/strap.2024.58336.1021 | ||
| نویسنده | ||
| حمید کریمیان* | ||
| دانشگاه ارومیه | ||
| چکیده | ||
| در این مقاله اثر میدان مغناطیسی چرخشی در توزیع چگالی الکترون های پلاسمای مغناطیده بررسی شده است.اندرکنش پالس لیزر پرتوان ناهمگنی محیط می شود بنابراین الکترون های پلاسما تغییر می کند و شکل نا همگن به خود می رسد با استفاده از معادله انتقال در پلاسما و معادله پیوستگی اثر یک میدان مغناطیسی چرخشی را به بررسی قرار می دهد و تغییر می کند. توزیع چگالی در اثر چرخش میدان مغناطیسی رادریافت ایم.نتایج به دست آمده نشان می دهد میدان مغناطیسی چرخشی باعث پخش چگالی به صورت نوسانی می شود که میدان مغناطیسی قوی در ارتباط با چگالی الکترون پلاسما را که تحت تأثیر میدان الکتریکی اعمالی قرار می گیرد را تغییر می دهد.بنابراین با تعاریف تغییرات می تواند چگالی را کنترل کند و در ادامه عوامل وابسته به چگالی پلاسما را نیز کنترل کند یکی ازموارد وابسته به چگالی پلاسما ضریب شکست وابسته به شدت می باشد که در پدیده های غیر خطی اپتیکی نقش اساسی را ایفا می کند | ||
|
آمار تعداد مشاهده مقاله: 461 |
||