تعداد نشریات | 44 |
تعداد شمارهها | 1,303 |
تعداد مقالات | 16,020 |
تعداد مشاهده مقاله | 52,489,148 |
تعداد دریافت فایل اصل مقاله | 15,216,829 |
اثر تلههای موجود در شکاف باند انرژی برروی جریان درین در ترانزیستورهای اثر میدان تونلی | ||
مجله مهندسی برق دانشگاه تبریز | ||
مقاله 18، دوره 50، شماره 4 - شماره پیاپی 94، اسفند 1399، صفحه 1639-1645 اصل مقاله (813.96 K) | ||
نوع مقاله: علمی-پژوهشی | ||
نویسندگان | ||
سیده محجوبه سجادی؛ سعید محمدی* | ||
دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر - دانشگاه سمنان | ||
چکیده | ||
در این مقاله، مطالعهای دقیق از مکانیزم تونلزنی به کمک تلهها در ترانزیستورهای اثر میدان تونلی ارائه شدهاست. این پدیده باعث تولید جریان نشتی بزرگی قبل از شروع فرایند تونلزنی باندبهباند می شود و نقش کلیدی در تعیین جریان حالت خاموش این ترانزیستورها دارد. با اصلاح فرمول SRH نشان داده شدهاست که در دمای اتاق برای ولتاژهای کمتر از ولتاژ آستانه جریان تونلزنی ازطریق تلهها همواره غالب بوده و باعث تنزل مشخصهی کلیدزنی ترانزیستور، که توسط شیب زیر آستانه سنجیده میشود، میگردد. این نتایج برای ساختارهای دو گیتی و GAA که در آنها تلهها بین ناحیه تونلزنی سورس-کانال قرار میگیرند نیز قابل تعمیم است. فرایند تونلزنی ازطریق تلهها وابستگی قوی به میدان الکتریکی و دما دارد. در ساختار ترانزیستورهای مورد بحث در این مقاله از نیمههادیهای گروه سه و پنج جدول تناوبی استفاده شدهاست. همچنین اثر متغیرهای ساختاری مختلف بر میزان جریان تونلزنی ازطریق تلهها در این پژوهش مورد بررسی قرار گرفتهاست. | ||
کلیدواژهها | ||
ترانزیستور اثر میدان تونلی˓ تونلزنی باندبهباند˓ تونلزنی ازطریق تلهها˓ رابطه SRH˓ نیمههادیهای III؛ V | ||
مراجع | ||
[1] سید امیر هاشمی˓ «مدل تحلیلی پتانسیل و ولتاژ آستانه ترانزیستور ماسفت دو گیتی با گیت دو ماده ای بدون آلایش»˓ مجله مهندسی برق دانشگاه تبریز˓ دوره 47˓ شماره 4˓ صفحات 1759-1769˓ زمستان 1396. [2] مهسا مراد و میثم زارعی˓ «ارائه ساختاری جدید از ترانزیستورهای اثرمیدان در مقیاس نانو به منظور بالا بردن قابلیت اطمینان»˓ مجله مهندسی برق دانشگاه تبریز˓ دوره 48˓ شماره 3˓ صفحات 1399-1404˓ پاییز 1397. [3] S. H. Kim, Germanium-Source Tunnel Field Effect Transistors for Ultra-Low Power Digital Logic, Ph.D. Thesis, University of California, Berkeley, 2012. [4] T. J. Vasen, Investigation of III-V Tunneling Field-Effect Transistors, Ph.D. Thesis, University of Notre Dame, Indiana, 2014. [5] W. E. Spear, P. G. LeComber and A. J. Snell, “An Investigation of the amorphous-silicon barrier and pn junction,” Philosophical Magazine B 38, pp. 303–317, 1978. [6] G. Vincent, A. Chantre and D. Bois, “Electric field effect on the thermal emission of traps in semiconductor junctions,” Journal of Applied Physics, vol. 50, no. 8, pp. 5484–5487, 1979. [7] P. T. Landsberg, Recombination in Semiconductors, Cambridge Univ. Press, Cambridge, pp. 172–182, 1991. [8] J. Y. Hou, J. K. Arch, S. J. Fonash, S. Wiedeman and M. Bennett, “An examination of the tunnel junctions in triple junction a-Si:H based solar cells: modeling and effects on performance,” Conference Record of the 22nd IEEE, Photovoltaic Specialists Conference, Las Vegas, pp. 1260–1264, 1991. [9] J. A. Willemen, M. Zeman and J. W. Metselaar, “Computer modeling of amorphous silicon tandem cells,” Proceedings of the first WCPEC-1, Hawaii, pp. 599–602, 1994. [10] H. Xu and Y. Dai, “Two-dimensional analytical model of double-gate tunnel FETs with interface trapped charges including effects of channel mobile charge carriers,” Journal of Semiconductors, vol. 38, no. 2, 2017. [11] J. Furlan, “Tunneling generation–recombination currents in a-Si junctions,” Progress in Quantum Electronics, vol. 25, no. 2, pp. 55–96, 2001. [12] M. Baudrit, and C. Algora, “Tunnel Diode Modeling, Including Nonlocal Trap-Assisted Tunneling: A Focus on III–V Multi-junction Solar Cell Simulation,” IEEE Transaction on electron devices, vol. 57, no. 10, 2010. [13] R. N. Sajjad, W. Chern, J. L. Hoyt and D. A. Antoniadis, “Trap Assisted Tunneling and Its Effect on Subthreshold Swing of Tunnel FETs,” IEEE Transaction on electron devices, vol. 63, no. 11, 2016. [14] R. N. Sajjad, U. Radhakrishna and D. A. Antoniadis, “A tunnel FET compact model including non-idealities with Verilog implementation,” Solid State Electronics, vol. 150, pp. 16-22, Dec. 2018. [15] S. Mohammadi and H. R. T. Khaveh, “An Analytical Model for Double-Gate Tunnel FETs Considering the Junctions Depletion Regions and the Channel Mobile Charge Carriers,” IEEE Transactions on Electron Devices, vol. 64, no. 3, pp. 5021-5029, Mar. 2017. | ||
آمار تعداد مشاهده مقاله: 397 تعداد دریافت فایل اصل مقاله: 427 |